1.消息面（最新消息，接上文）
年4月29日，中国半导体行业协会就日方计划扩大半导体制造设备出口管制范围发布严正声明。
2.光刻机核心技术光学系统、曝光光源系统、双工作台、浸没系统等系统组成，其中光学系统是光刻机的核心，光刻机最小工艺节点越小，对光学系统的精度要求越高。
3.光刻机市场格局
年全球光刻机三分天下，（荷）阿斯麦ASML占82%,(日）佳能10%，（日）尼康8%。（此次日半导体设备出口管制就是佳能和尼康）
4.光刻机光学主要供应商蔡司占82%、佳能10%、尼康8%。（此次，日限制佳能、尼康，德限制蔡司）
5.光刻机中国版的小蔡司——晶方科技
晶方科技控股81.09%子公司荷兰Anteryon为阿斯麦ASML提供光学镜头，ASML是Anteryon最大的客户，收入主要来源。阿斯麦ASML和Anteryon均是位于荷兰埃因霍温市。
6.光刻机中国版的小蔡司——茂莱光学
为上海微电子供应光刻机透镜，茂莱光学的光学器件用在i-line光刻机上，但其工艺相比蔡司供货给ASML的EUV光学系统在精度和光洁度差距很大，技术上比晶方科技子公司Anteryon略差，Anteryon获得阿斯麦ASML认证。
总结：
光刻机被荷兰阿斯麦ASML、日本佳能、尼康垄断。其中光学系统，荷兰阿斯麦ASML光学镜头来自德的蔡司，德限制蔡司，日限制半导体设备佳能、尼康。晶方科技子公司Anteryon的光学镜头技术已顺利移植到苏州落地，中科院微电子联合晶方科技攻克MEMS项目（1.25亿经费）。
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